ASML сообщила, что намеченного увеличения выпуска литографических установок не хватит, чтобы полностью удовлетворить спрос клиентов в 2027 и 2028 годах. Компания теперь рассматривает расширение мощностей на 2028 год сверх ранее изучавшегося роста ещё на 30% год к году — для серийных EUV-систем и иммерсионных DUV-установок.

В 2026 году ASML рассчитывает выпустить около 65 серийных EUV-систем — почти на 50% больше, чем годом ранее. На 2027 год компания уже наметила рост мощности ещё на 30%. ASML подчёркивает, что поставщики компонентов, включая оптические системы Zeiss, сейчас не ограничивают выпуск: узким местом становится собственная способность собирать и вводить в строй больше машин.

Клиенты ASML ожидают, что спрос на их передовые логические чипы и память будет превышать предложение как минимум до 2028 года. Заказы на оборудование для 2028-го уже накапливаются, а интерес распространяется на 2029–2030 годы. Но это прогноз руководства, основанный на планах клиентов и их долгосрочных контрактах, а не гарантия будущего спроса.

Снизить дефицит должны модернизация уже установленных машин и новая NXE:3800F: её производительность заявлена на уровне 260 пластин в час против 230 у нынешней NXE:3800E. Новые мощности в Эйндховене, как отмечает Reuters, начнут работать не раньше 2029 года, а заказы на 2029–2030 годы ASML пока не принимает, чтобы не обещать больше доступного выпуска.

Прогноз может ослабнуть, если инвестиции в ИИ-инфраструктуру замедлятся из-за дорогого финансирования или недоказанной окупаемости. Однако изменение уже конкретно: ASML больше не считает ранее намеченное расширение достаточным. Темп роста производства передовых чипов в ближайшие два года может ограничивать не желание строить фабрики, а выпуск машин, без которых эти фабрики не заработают.